चीनी उद्योग में “रंग-विरंजक और दुर्गन्ध-विरंजक मास्टर” Ⅰ

सक्रिय कार्बन कणों के अंदर असंख्य सूक्ष्म छिद्र होते हैं, और छिद्रों के आकार की सीमा काफी विस्तृत होती है, कुछ एंगस्ट्रॉम से लेकर कई माइक्रोमीटर तक। विशेष रूप से, कुछ से लेकर कई दसियों एंगस्ट्रॉम की सीमा में छिद्रों के आकार वाले बड़ी संख्या में सूक्ष्म छिद्र होते हैं। इनमें से प्रत्येक सूक्ष्म छिद्र एक निश्चित सतह क्षेत्र से मेल खाता है, जिससे सक्रिय कार्बन का समग्र विशिष्ट सतह क्षेत्र काफी उल्लेखनीय हो जाता है। उत्कृष्ट गतिविधि वाले 1 ग्राम सक्रिय कार्बन के लिए, इसका विशिष्ट सतह क्षेत्र लगभग 1000m² तक पहुँच सकता है। क्योंकि सक्रिय कार्बन की सतह पर परमाणु बल क्षेत्र असंतृप्त अवस्था में होता है और अवशिष्ट संयोजकता बल होते हैं, इतने बड़े विशिष्ट सतह क्षेत्र के आधार पर, इसकी सतह ऊर्जा अत्यंत महत्वपूर्ण होती है। यह वास्तव में सोखना प्रभाव के कारण है कि सक्रिय कार्बन की सतह पर असंतृप्त बल क्षेत्र को एक निश्चित सीमा तक मुआवजा दिया जा सकता है, जिससे सतह ऊर्जा कम हो जाती है। इसलिए, विशिष्ट तापमान और दबाव की स्थिति में, सक्रिय कार्बन की सतह स्वचालित रूप से उन पदार्थों को सोख लेगी जो इसकी सतह ऊर्जा को कम कर सकते हैं। हालाँकि, जब सक्रिय कार्बन घोल से अलग-अलग पदार्थों को सोखता है, तो सोखने की मात्रा घोल में इन पदार्थों के अनुपात के अनुरूप नहीं होती है। सक्रिय कार्बन हमेशा सोखने की सतह पर विलेय सांद्रता को अधिक संतुलित बनाता है। इस तरह, जब सोखने की क्षमता समान होती है, तब भी चीनी के घोल में कम सांद्रता वाले गैर-चीनी पदार्थों को उच्च सांद्रता वाले सुक्रोज की तुलना में सक्रिय कार्बन द्वारा सोखने की अधिक संभावना होती है। सिरप में रंगीन पदार्थों में आमतौर पर अपेक्षाकृत बड़ा आणविक आयतन और अपेक्षाकृत बड़ा आणविक भार होता है। सक्रिय कार्बन के सोखने के माध्यम से, इसकी सतही ऊर्जा काफी हद तक कम हो जाती है, और सक्रिय कार्बन से उपचारित सिरप एक महत्वपूर्ण डिग्री का विरंजन प्राप्त कर सकता है। यह ठीक इसलिए है क्योंकि सक्रिय कार्बन में सिरप के लिए एक उत्कृष्ट विरंजन और शुद्धिकरण क्षमता है कि इसे विदेशों में उन्नत चीनी उद्योगों में व्यापक रूप से और प्रभावी रूप से लागू किया गया है।​

जब सक्रिय कार्बन का उपयोग चीनी के घोल के उपचार के लिए किया जाता है, तो इसके महत्वपूर्ण रंग-विरंजन प्रभाव के अलावा, यह चीनी के घोल में कोलाइड और सतह-सक्रिय अशुद्धियों को भी हटा सकता है। यह प्रक्रिया चीनी के घोल के सतही तनाव को बढ़ाएगी, इसकी चिपचिपाहट को कम करेगी, वाष्पीकरण प्रक्रिया के दौरान झाग के निर्माण को कम करेगी, क्रिस्टलीकरण की गति को बढ़ाएगी, और चीनी के क्रिस्टलीकरण की प्रक्रिया को अनुकूलित कर सकती है, जिससे चीनी के क्रिस्टल से गुड़ को अलग करने को बढ़ावा मिलेगा।

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